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講演プログラム（会場・日程別） : EB会場・第2日 : EB215

EB 会場(本部棟 3階 2306) ・ 第 2 日(9月17日(水))

SY-80 | SY-84

講演 時刻	講演 番号	講演題目／発表者	キーワード	分類 番号	受理 番号
SY-80 [エレクトロニクス部会シンポジウム] エレクトロニクス材料とプロセス技術
(9:00～10:00) (座長 齊藤 丈靖)
9:00～ 9:20	EB201	SiCxNyOzプラズマCVD成膜におけるArエッチングの影響 (横国大院理工) (正)羽深 等	PECVD Ar etching	SY-80	5
9:20～ 10:00	EB202	[展望講演] 『速い、安い、巧い』分子インプリント高分子センサ- 社会実装に向けた挑戦と展望 - (芝浦工大工) (正)吉見 靖男	Molecular imprint	SY-80	132
(10:00～11:00) (座長 岩本 猛)
10:00～ 10:20	EB204	[招待講演] 神奈川大学におけるロケット開発の成果と⽇本におけるロケット技術の今と展望 (神奈川大工) 高野 敦	Rocket	SY-80	214
10:20～ 10:40		休憩
10:40～ 11:00	EB206	還元性雰囲気下での真空紫外光照射による酸化銅表面の改質 (阪公大院工) ○(学)片山 魁人・ (正)齊藤 丈靖・ (正)岡本 尚樹・ (ウシオ電機) (正)遠藤 真一	Surface treatment VUV	SY-80	482
(11:00～12:00) (司会 羽深 等)
11:00～ 11:20	EB207	[招待講演] イオン液体電解質を用いるアルミニウム電析の現状と将来展望 (岩手大理工) (正)宇井 幸一	aluminum electrodeposition ionic liquid	SY-80	662
11:20～ 12:00	EB208	[展望講演] 小規模データを活かすマテリアルズインフォマティクスによる材料創製 (慶應大理工) 緒明 佑哉	Material informatics	SY-80	131
SY-84 [材料・界面部会シンポジウム] 塗布技術と表面加工 セッションスポンサー: 株式会社豊田中央研究所
(13:00～14:00) (座長 吉田 祐幸・稲澤 晋)
13:00～ 13:40	EB213	[招待講演] 材料の特質に立脚した革新的印刷プロセスの開発 (東大工) 長谷川 達生	printed electronics	SY-84	231
13:40～ 14:00	EB215	高濃度粒子分散液のシアシニングとシアシックニング挙動　～吸着および非吸着ポリマー添加系～ (豊田中研) ○(正)中村 浩・ (法)牧野 総一郎	rheology silica suspension shear-thinning / shear-thickening	SY-84	462
14:00～ 14:20		休憩
(14:20～15:40) (座長 鳥越 実・辰巳 怜)
14:20～ 14:40	EB217	流動下における電池電極スラリーの電流応答　～直流法と交流法の比較～ (豊田中研) ○(法)中野 広幸・ (法)増岡 優美・ (法)山脇 悠矢・ (法)牧野 総一郎・ (正)中村 浩	Rheology Rheo-electric analysis Lithium-ion battery	SY-84	485
14:40～ 15:00	EB218	イオン液体モノマーの薄膜形成に向けた基板表面修飾と濡れ性の評価 (岡山大院環生自) ○(学)藤井 翔・ (正)飯田 裕也・ (正)渡邉 貴一・ (正)小野 努	ionic liquid surface modification wettability	SY-84	136
15:00～ 15:20	EB219	リチウム電池正極・負極電極の観察技術　～バインダー・導電助剤・CNTの分布～ (豊田中研) ○(法)秋元 裕介・ (法)代永 彩夏・ (法)熊野 尚美・ (正)中村 浩	CNT Cutting observation SEM	SY-84	659
15:20～ 15:40	EB220	板状粒子で安定化された水滴の安定性と水滴凝集 (農工大院BASE) ○(学·技基)絹川 連太郎・ (農工大院工) (正)稲澤 晋	Particle stabilized emulsion Plate-like particle Aggregation	SY-84	702

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化学工学会 第56回秋季大会

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