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5) 反応工学

5-h. CVD・ドライプロセス

最終更新日時：2026-10-03 18:14:01

この分類でよく使われているキーワード	キーワード	受理件数
	Supercritical Fluid Deposition	5件
	SiC	2件
	Copper Deposition	2件
	Chemical Vapor Deposition	2件
	Process informatics	2件
	Atomic Layer Deposition	2件
	CVD	2件
	ALD	1件

受理番号	講演題目／発表者	キーワード	発表形式
88	湿式調製Fe/MgO触媒の開発とサブミリメートル長カーボンナノチューブの合成 (早大先進理工) ○(学)松川慶征・ (正)前智太郎・ (早大理工総研) (正)大沢利男・ (パナソニックエナジー) 加藤正樹・ (早大先進理工) (正)野田優	Carbon nanotubes Chemical vapor deposition Fe/MgO catalyst	P
115	触媒源と炭素源の分離加熱とカーボンナノチューブの気相合成 (早大先進理工) ○(学)安藤弘燿・ (早大理工総研) (正)大沢利男・ (早大先進理工) (正)野田優	carbon nanotube floating catalyst chemical vapor deposition computational fluid dynamics	P
134	SiN-ALDにおけるヒドラジンを用いた選択性の制御 (熊大院自/大陽日酸) ○(学)村田逸人・ (大陽日酸) (法)和田吉史・ (正)清水秀治・ (熊大半導体) (正)百瀬健	Atomic layer deposition Area selective deposition Hydrazine	O
202	In-situラマン分光計測を駆使したCO₂駆動型ZnO形成の速度論的解析 (科学大) ○(正)織田耕彦・ (学)室之園相生・ (正)下山裕介	In-situ Raman spectroscopy High-pressure CO2 ZnO formation	O
528	ALDにおける原料のオンデマンド供給を可能にする高速開閉バルブの動作制御 (熊大院自) ○(学)石田栞大・ (熊大院自/堀場エステック) 西里洋・ (熊大院自) (学)小田翔太・ (堀場エステック) 中家佑吾・ (熊大半導体) 奈須錦一・ (熊大先端) 岡島寛・ (熊大半導体) (正)百瀬健	Atomic Layer Deposition Sustainable Valve	O
592	超臨界流体薄膜堆積法の最適制御のためのプロセスインフォマティクス手法論の構築(1) (熊大工) ○(学)佐内晴太郎・ (熊大院自) (学)小田翔太・ (熊大院先端) 橋新剛・ (熊大産ナノ研) 赤井一郎・ (熊大半導体) (正)百瀬健	Process informatics Physsics-informed Bayesian Optimization Supercritical fluid deposition	O
603	超臨界流体薄膜堆積法の最適制御のためのプロセスインフォマティクス手法論の構築(2) (熊大院自) ○(学)小田翔太・ (熊大工) (学)佐内晴太郎・ (熊大院先端) 橋新剛・ (熊大産ナノ研) 赤井一郎・ (熊大半導体) (正)百瀬健	Process informatics Physics-informed bayesian optimization Supercritical fluid deposition	O
604	超臨界流体薄膜堆積法を用いた高アスペクト比構造へのCu製膜における高速・均一条件の検討 (熊大院自/東大工) ○(学)中村有沙・ (熊大院自) (学)近藤澄弥・ (学)小田翔太・ (熊大工) 西優太・横山輝・ (熊大半導体) (正)百瀬健	Supercritical Fluid Deposition Copper Deposition High growth rate	O
639	ニューラルネットワークポテンシャルを活用したSiC-CVDの表面反応機構解析 (東大院工) ○(学)吉田幸希・ (正)大高雄平・ (正)佐藤登・ (正)玉置直樹・ (正)筑根敦弘・ (IHI) (正)福島康之・ (東大院工) (正)霜垣幸浩	SiC Chemical Vapor Deposition Neural network potential	O
672	Qmass測定を活用したSiC-CVDプロセスの反応モデルの検証 (東大院工) ○(学)吉田幸希・ (正)大高雄平・ (正)佐藤登・ (正)玉置直樹・ (正)筑根敦弘・ (IHI) (正)福島康之・ (東大院工) (正)霜垣幸浩	SiC CVD Quadrupole Mass Spectrometry	O
676	TMA/NH₃系FM-CVDによる低温AlN製膜と高熱伝導率化の検討 (東大院工) ○(正)大高雄平・ Lu Yin-Chi・ (学)畠山大樹・ (正)山口潤・ (正)玉置直樹・ (正)佐藤登・ (正)筑根敦弘・ (正)霜垣幸浩	AlN CVD 3DIC	O
684	超臨界流体薄膜堆積法を用いたCu製膜における表面反応速度定数と吸着平衡定数の測定 (熊大院自) ○(学)近藤澄弥・ (学)小田翔太・ (熊大院自/東大工) 中村有沙・ (熊大半導体) (正)百瀬健	Supercritical Fluid Deposition Copper Deposition Langmuir-Hinshelwood reaction kinetics	O
696	テラヘルツ波デバイス形成のための超臨界流体薄膜堆積法の構築 (熊大院自) ○(学)上原光稀・ (熊大半導体) (正)百瀬健	Supercritical Fluid Deposition Supecritical Fluid Extraction Copper Deposition on Polymer	O
700	Pd(hfac)₂を用いたPd-ALDにおける初期核形成過程の検討 (東大工) ○(学)森亘・ (東大院工) (学)永井総雅・ (正)Deng Yubin・ (正)大高雄平・ (正)山口潤・ (正)佐藤登・ (正)玉置直樹・ (正)筑根敦弘・ (正)霜垣幸浩	palladium ALD nucleation	P
712	ニューラルネットワークポテンシャルを用いた新規Co原料によるCo-ALDプロセスの検討 (東大工) ○(学)谷地啓輔・ (東大院工) (正)佐藤登・ (正)玉置直樹・ (正)筑根敦弘・ (正)霜垣幸浩	Co ALD Newral Network Potential Reaction Design	P

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